一则上海微电子28nm浸没式DUV光刻机完成首批批量交付的消息刷屏半导体圈。

  文章首先质疑了报道的信源问题。该报道仅以据报道含糊其辞，没有提及任何具体的权威来源，这对于光刻机这样的重大科学技术新闻来说，显然缺乏基本的严肃性。

  报道声称2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上首次官宣SSA800系列实现全面量产。但调查发现，这个所谓的“长三角半导体产业峰会”没有一点权威新闻媒体报道，查不到举办时间、地点、主办方等任何基础信息。上海微电子官方也从未发布过相关公告。网上所有关于该峰会的内容，全部都是与上海微电子官宣量产绑定的自媒体通稿。

  另一个不实说法是2026年3月SEMICONChina展会上，上海微电子首次公开展示了SSA800样机。芯智讯记者明确说，自己当时就在展会现场，上海微电子的展台上就没有这款设备。展会期间及结束后，也没有一点正规新闻媒体报道过此事。

  最离谱的是量产良率90%~95%的说法。一位光刻机厂商内部人士直言：这是假消息，光刻机哪里来的良率。光刻机是生产芯片的设备，本身不存在良率这一指标。

  即便指的是用它生产芯片的良率，这一个数字也过于夸张。要知道台积电28nm工艺2011年量产后，直到2012年8月良率才勉强超过80%。

  一位国内晶圆代工厂的人偷偷表示，目前SSA800系列并未进入任何商业化晶圆厂，仍然在集成电路研发中心（ICRD）来测试验证。所谓的首批批量交付和量产工艺验证均与事实不符。

  据了解，SSA800实际上就是近几年市场一直传闻的国产“28nm光刻机”，是一款193nmArF浸没式光刻机，套刻精度控制在2.3~2.5nm，每小时可处理150片晶圆，对标的是ASML TWINSCAN NXT:1950i。后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，混合匹配套刻精度为3.5nm，每小时可处理200片晶圆。

  文章最后表示，期盼国产光刻机突破是每一个中国人的朴素情感，但越是渴望，越应该守住理性底线。虚假的放卫星不仅会误导公众，还会破坏产业链踏实攻坚的严肃性。