日前，我国半导体工业研制组织上海集成电路研制中心宣告与国际光刻巨子ASML签定协作备忘录，将在上海协作共建一个半导体光刻人才培训中心。

  其实，这并不是ASML与国内单位第一次协作——在几个月前，上海微电子配备（集团）股份有限公司（SMEE）宣告与之签署战略协作备忘录。联系到近年来多家国内单位获得光刻机技能打破。或许在霸占光刻机技能难关方面，我国和许多范畴相同，挑选了两条腿走路的方法。

  光刻机被业界称为集成电路工业皇冠上的明珠，研制最新型的光刻机的技能门槛和资金门槛十分高。现在全球高端光刻机商场根本被荷兰ASML独占，Intel、台积电、联电、三星、格罗方德、中芯国际等国际著名的晶圆厂都是ASML的大客户。最先进的EUV光刻机全球只是ASML可以出产——Intel、三星、台积电用来加工10nm芯片的光刻机都是购买自ASML。

  正是由于技能上的独占位置，以及光刻机自身研制本钱高、制造本钱不菲，ASML的EUV光刻机价格十分高，在上一年第三季度和第四季度出售的两台EUV光刻机价格都超越1亿美元，落后EUV一代的ArF光刻机均匀价格也在4000万至5000万欧元左右。

  ASML之所以能在高端光刻机范畴名列前茅，本质上也是西方国家科学技能充沛整合的表现，ASML出产光刻机所用的要害零部件，比方光源、物镜实际上也是西方供货商供给，像加工光学仪器的机床等一些设备也是源自德国。此外，Intel、台积电、三星都是ASML的股东之一，向ASML供给资金。

  比较之下，国内光刻机厂商则显得很破旧，处于技能抢先的上海微电子配备有限公司已量产的光刻机中功能最好的是能用来加工90nm芯片的光刻机，技能距离说是距离都不为过，正是因而，国内晶圆厂所需的高端光刻机彻底依靠进口。

  网上一些言论很喜欢将我国在某个范畴的技能水平和西方最先进的国家比较，然后得出一些十分失望的定论。在光刻机方面，假如将我国与荷兰做比照或许就不那么适宜了。究竟我国在该项技能上，并非落后于某一个国家，而是在与整个西方的高端精细制造实力相比赛。

  正是由于高端光刻机是最重要的半导体设备，国家关于完成高端光刻机国产化很垂青，《我国制造2025》将其列为了集成电路制造范畴的开展要点。因而，即便在光刻机技能上我国与ASML的距离十分大，国内各单位其实也在吃苦攻坚，力求完成技能打破，以完成提前追赶上ASML。

  在上一年，成都光机所找到了一条可以绕开传统的193nm曝光的技能道路，使用长波长光源也可以获得一个打破衍射极限的分辨率的图形。在试验中，这种光刻机能轻松完成单次成像到达22纳米水平，假如结合多重曝光技能，就可以适用于制备10纳米以下的信息器材。有必要阐明的是，这种技能若可以工业化，那么相关于现有的技能而言，在本钱上和安全性方面都会有一个很大的提高，并且成都光机所获得的技能打破是国内原创性技能。

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